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中国目前光刻机处于怎样的水平？目前来看，我国自研的光刻机还依然处于制程工艺为90纳米的水准。这个水准的光刻机，隶属于第四代步进扫描式光刻机，采用的是波长为193纳米的，深紫外光ArF光源，其制程工艺在...

中国目前光刻机处于怎样的水平？我国的光刻机技术仍然处于低端水平，上海微电子的光刻机代表我国光刻机的最高水平，制程工艺为90nm，而ASML的光刻机已经进...